엔지니어 꿈꾸는 테리어몬

오늘은 SPTA 패터닝 실습 1일차이다. 오늘 오전에는 Photolithography에 대한 이론적인 지식 및 반도체 공부를 대하는 태도와 자세에 대해 배울 수 있었다. 강사님이 계속해서 한 가지에 포커스를 맞추셨기에 그 관점과 가치관을 이해하는데 어려움이 없었다. 이는 뒤에 소개하도록 하겠다. Photolithography What / 포토공정이 뭐야? : 포토공정(Photolithography)란 PR과 light source를 이용하여 설계자가 의도하여 마스크 위에 그린 회로를 Wafer상에 그대로 옮기는 공정을 뜻한다. Why? - 포토공정 왜하는데? : Etch 마스크와 ion-implantation 마스크 제작을 하기 위해 진행된다. 이 과정이 있어야 후속 공정들이 진행 될 수 있다. How?..

3일차 교육이 시작되었다! 3일차 교육의 주요 과정은 크게 4가지로 나뉘었다. PECVD 공정 Etch 공정 Metrology 조별토론 및 발표 공정실습 1일차와 마찬가지로, 나는 오전 7시 20분에 집 앞에서 인하대 셔틀버스를 타고 등교했다.(모교가 인하대여서 이런걸 알고있어서 다행..) 도착하니까 시간이 8시 30분 이여서 오늘은 커피를 사러 학교 편의점에 잠깐 들러서 커피를 장전하고 굳건한(?) 마음으로 실습 장소에 도착하였다. [PECVD] 실습 2일차는 9시 부터 바로 클린룸에 들어가서 PECVD 실습교육을 받았다. PECVD 장비를 작동시키는 방법과 원리를 포함하여 CVD(Chemical Vapor Deposition)의 종류와 각각의 차이점까지 모두 연구원분이 매우 자세히 설명해 주셨다. P..

우선 아침 9시까지 도착하는것이 문제였다. 아침에 일찍 미라클 모닝으로 도착을 하면 가장 먼저 하는 과정은 이번에 진행할 MOSCAP 제작에 앞서, 필요한 기본적인 반도체 지식들과 클린 룸 설명 및 안전교육을 진행받는다. 이때 약 3시간 정도 진행되는데, 아침에 도착하자마자 졸릴 수 있기 때문에 커피를 가져가는것을 강력 추천한다.(핫식스 오히려 좋아) 필자는 안가져가서 정신력으로 버텨냈다.. 하지만 매우매우매우 정말 중요한 내용들이니 반복 학습 및 암기가 필요할 정도의 내용들이니 정말 비싼 돈 낸 만큼 얻어가자. 본론으로 돌아가서, 오전 교육을 마치고 점심시간이 한시간 주어진다. 이때는 주변 인하대 후문가에 가면 정말 여러 식당들이 있는데 아무데나 가서 먹어도 그냥저냥 먹을만하다. 점심시간 이후 복귀하면..

23.03.12 (일) - 이론 수업 (오후1시~오후7시) 1일차에는 오후 1시부터 강남역 4번출구 쪽으로 나와 조금만 걸어가면 나오는 위포트 건물에서 이론 교육을 받았다. 우선, 반도체에 공정에 가장 중요한 두가지를 뽑아라! 라고 한다면 뭘 뽑을수 있을까? 첫번째는 진공, 두번쨰는 플라즈마 일 것이다. 그래서 강의 초반부에는 상압부터 저진공 고진공을 나누는 기준과 진공을 형성해주는 장비들과, 플라즈마 형성 조건에 대해 배웠다. 강의 중반부와 후반부에는 우리가 흔히 말하는 반도체 8대 공정에 대한 교육을 받았는데, 다른 공정들 보다도 포토공정에 대해 더 자세히 교육을 진행해 주셨다. 특이하게 이번에는 상반기 삼성전자 공채등이 겹쳐서 원래는 오전에 진행되어야 하는 취업전략 강의는 온라인으로 지급! 오랜만에..